99.99% Target di Sputtering in Ossido di Ittrio Puro per Y2o3 Applicazioni di Ittria

Personalizzazione: Disponibile
Applicazione: Architettura, Decorazioni in ceramica, Elettronica, Utilizzo domestico, Medico, rivestimento in pvd
Purezza: 99.50%

Products Details

  • Panoramica
  • Descrizione del prodotto
  • Parametri del prodotto
  • Profilo aziendale
  • Certificazioni
  • Fabbrica e attrezzature
  • Imballaggio e spedizione
  • FAQ
Panoramica

Informazioni di Base.

Model No.
XK-Y2O3
Tipo
Piatto di ceramica
dimensioni
1 pollice 2 pollici 3 pollici o come la vostra richiesta
oem
supporto
mod
1 pz
materiali
y2o3
tempo di consegna
7-21 giorni
Pacchetto di Trasporto
blister sottovuoto
Specifiche
d50,8 mm
Marchio
xinkang
Origine
Repubblica Popolare Cinese
Codice SA
3824909990
Capacità di Produzione
10000 pezzi/mese

Descrizione del Prodotto

99.99% Pure Yttrium Oxide Ceramic Sputtering Target for Y2o3 Yttria Applications
Descrizione del prodotto

XinKang Factory Supplies Premier Top-Ranking 99.99% ad alta densità Y2O3 Target Ittria ossido ittrio bersaglio sputtering ceramico
Nome Ossido di ittrio Sputtering ceramico Target / target ceramico Y203
Materiale Ossido di ittrio Y203 materiali ceramici
Purezza 99.9%-99.995%, 3N,3N5,4N,4N5,5N,5N5,6N.
Dimensioni D3x3mm, 2 pollici, 3 pollici, o su richiesta
Colore Colore bianco
Forma Pellet, granuli, planare/rotondo/piastra/rotante/barra, su richiesta.
Superficie Superficie lucidata
Densità Y 4,47 g/cm3
Punto di fusione Y 1522°C
Applicazione Rivestimento a film PVD, rivestimento a film sottile ottico, uso industriale, processo, area dei semidoduttori, esperimenti, ecc.
Elemento correlato Al,mg,Cu,Ni,Co,Fe,Zn,Sn,Bi,GA,GE,in,V,W,Mo,Nb,Ta,Cr,Zr,ti,HF ecc + bersagli sputtering in lega di metallo+bersagli in ceramica
Nota Supporto di dimensioni personalizzate, forma, purezza, diverse proporzioni di lega, ecc.
Contattateci in primo luogo (il prezzo si basa sulle dimensioni e sulla purezza)

Descrizione:Xinkang produce e fornisce con orgoglio una vasta gamma di bersagli di sputtering ceramici e bersagli composti, che comprendono bersagli di sputtering di ossido, bersagli di sputtering di carburo, bersagli di sputtering di fluoruro, bersagli di sputtering di solfuro e molto altro ancora. La nostra sofisticata tecnologia di produzione è al centro della nostra eccellenza. Il metodo della pressa a caldo costituisce la spina dorsale della nostra produzione di catacaline in ceramica. Dalla meticolosa selezione delle materie prime al controllo preciso della temperatura, della pressione e del tempo durante la sinterizzazione a caldo, la nostra aderenza ai rigorosi processi di produzione garantisce che i nostri obiettivi di polverizzazione catodica in ceramica soddisfino i più elevati standard. I nostri obiettivi vantano elevata purezza, densità notevole, colore uniforme della superficie privo di macchie e crepe, Fornire agli utenti finali velocità di erosione costanti e la capacità di ottenere pellicole sottili omogenee e ad alta purezza durante tutto il processo PVD.
Bersaglio di sputtering dell'ossido di ittrio;
Purezza: 99.99%;
Metodo di produzione: Sinterizzazione Hot Press;
Dimensioni disponibili:
Bersaglio circolare: Diametro = 3 mm;
Bersaglio rettangolare: Lunghezza = 3 mm;
Quantità minima per ordine: 1 pezzo;
Tipo di incollaggio: Indio, elastomero;
Ossido di alluminio (Al2O3) catodico bersaglio
Ossido di zinco (AZO) alluminio sputtering Target
Ossido di indio (In203) bersaglio di sputtering
Bersagli di sputtering dell'ossido di indio stagno (ITO)
Ossido di zinco (ZnO) catodico bersaglio
Target di polverizzazione catodica dell'ossido di stagno (SnO2)
Ossido di tantalio (Ta205) bersaglio sputtering
Ossido di niobio (Nb2O5) bersaglio di sputtering
Materiali di sputtering relativi
ZnO bersaglio sputtering
Target di sputtering TiO2
Target di polverizzazione catodica MnO2
Bersaglio sputtering stagno
Obiettivo di sputtering Si3N4
Al2O3 bersaglio sputtering
Target SIC sputtering
Target di sputtering Co2O3
Target di sputtering ALN
Obiettivo di sputtering ITO
Target di sputtering VO2
Target di sputtering SiO2
Obiettivo sputtering Fe2O3
Destinazione di sputtering MgO
Target di sputtering SnO2
Destinazione di sputtering CuO
Obiettivo di sputtering NIO
Target di sputtering MoO3
WO3 target di sputtering
Obiettivo di sputtering LiFePO4
ZnS Sputtering Target
Bersaglio per la polverizzazione del volume Bi2Te3
Target di sputtering Ga2O3
Presentazione di In2O3 Sputtering Target: Realizzato con precisione per soddisfare le esigenze avanzate di materiali, il nostro target Indium Oxide (In2O3) offre purezza e prestazioni senza precedenti per una vasta gamma di applicazioni high-tech.
Scoprite il Ta2O5 Sputtering Target: Provate la qualità e l'affidabilità superiori del nostro target di pentossido di tantalio (Ta2O5), progettato appositamente per eccellere nei processi tecnologici e industriali all'avanguardia.
Esplora il target di sputtering Nb2O5: Il nostro target di pentossido di Niobio (Nb2O5) offre purezza e uniformità eccezionali, rendendolo la scelta ideale per applicazioni sofisticate in scienze e ingegneria dei materiali avanzate.
Parametri del prodotto

Target di sputtering ad alte prestazioni con ossido di afnio
/ HfO2 bersagli ceramici COA - certificato di analisi
99.99% Pure Yttrium Oxide Ceramic Sputtering Target for Y2o3 Yttria Applications
Applicazioni diverse:
1. Migliorare e ottimizzare le proprietà superficiali dei materiali, come l'aumento della durezza, la resistenza all'usura, la resistenza alla corrosione e molto altro.
2. Utilizzato in modo innovativo per sviluppare nuovi materiali o migliorare le prestazioni di quelli esistenti, incluse le applicazioni in celle solari, LED, display a schermo piatto e altro ancora.
3. Essenziale nella creazione di componenti elettronici avanzati, quali transistori, circuiti integrati e dispositivi simili.
4. Cruciale per lo sviluppo di superconduttori, pellicole ottiche, sensori e un'ampia gamma di altri materiali specializzati.

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Bersagli in ceramica
Ossido AI203, ZnO, ITO, MoO3, WO3, Nio, CeO2, In203, Ga203, ecc.
Solfuro CUS, SnS, ZnS, WS2, MoS2, Fes, Sb2S3, ecc.
Nitruro AIN, TIN, Si3N4, NBN, TAN, BN, ecc.
Carburo B4C, SiC, WC, TIC, TAC, ecc.
Fluoruro YbF3, MgF2, CaF2, LiF, AIF3, ecc.
Altri LaB6, MgB2, Sb2Te3, ecc.
   
Etichette in lega
A base di nichel NIV, NiFe, NiTi, Nico, NiAI, NICU, NiCrSi, NiCuTi, NiCuMn, NiCrCo, NiCoFeTi, ecc.
A base di ferro FECO, FeNi, FeCoTaZr, FeMn, FeSi, FeCr, FeHf, ecc.
A base di cobalto CoTaZr,CoCr, COCU, CoCrW, CoCrMo.CoCrNiMo.etc
A base di rame CuGa, CuNi, Cual, CuTi, CulnGa, CuNiTi, SnAgCu, ecc.
A base di alluminio Alti, AlCr, AlCrSi, AlCu, AlSi, AlSiCu, AlSnCu, ecc.
Altra lega WTI, ZnAal, ZnSn
   
Obiettivi metallici
Metallo ad alta purezza Ni, ti, Co, Cu, Fe, Al, Sn, Zn, mg, in, GE, si, Bi, Zn, V, ecc ;
Metallo di terra raro SC, la, CE, Pr, Nd, PM, SM, EU, Gd, TB, DY, ho, Er, TM, Yb, LU, ecc.
Metallo refrattario HF, Zr, Ta, Nb, w, MO,etc
Metallo prezioso IR, Ru, Pd, OS, ecc.

Profilo aziendale

Fabbrica:
Fondata nel 2014, Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd. È leader di eccellenza nel campo dei materiali metallici di alta qualità. La nostra esperienza comprende la ricerca meticolosa, lo sviluppo innovativo, la produzione precisa, la lavorazione su misura, le vendite strategiche, e servizio eccezionale. La nostra gamma di prodotti include elementi metallici di prima qualità, leghe sofisticate, obiettivi di sputtering in metallo all'avanguardia, obiettivi avanzati in lega, obiettivi in ceramica di qualità superiore, materiali di evaporazione di livello superiore, polvere metallica di alta qualità, e polvere di lega su misura, insieme ad altri articoli di metallo specializzati. Adesione stringente a GB/T, ASTM/B, ASME SB, AMS, DIN, Gli standard JIS, oltre alle specifiche personalizzate dei clienti, garantiamo una qualità senza pari in ogni prodotto. Le nostre offerte sono adatte a una vasta gamma di settori, tra cui petrolchimico, aerospaziale, aeronautico, navale, energia, medicina, militare, elettronica, protezione ambientale, settore macchine, strumentazione, metallurgia e automotive. Situato a Changsha, Hunan, la nostra struttura all'avanguardia si estende su 4000 metri quadrati e rispetta le certificazioni ISO9001:2015 e ISO14001:2015. Siamo dotati della tecnologia più recente e supportati da un team di tecnici altamente qualificati, che utilizzano strumenti di test avanzati come analizzatori di zolfo al carbonio, spettrometri, rilevatori di difetti, macchine per la cupping e tester di rigidità per garantire una qualità superiore. Il nostro impegno costante verso l'eccellenza, la determinazione dei prezzi competitivi, la consegna tempestiva e l'eccezionale servizio post-vendita ci ha fatto ottenere una clientela dedicata in tutti gli Stati Uniti, Europa, Medio Oriente, Giappone, Corea, Singapore, India e Kenya. Scopri il massimo dei materiali e dei servizi in metallo con noi.
99.99% Pure Yttrium Oxide Ceramic Sputtering Target for Y2o3 Yttria Applications
Certificazioni

99.99% Pure Yttrium Oxide Ceramic Sputtering Target for Y2o3 Yttria Applications
Fabbrica e attrezzature

99.99% Pure Yttrium Oxide Ceramic Sputtering Target for Y2o3 Yttria Applications
Imballaggio e spedizione

99.99% Pure Yttrium Oxide Ceramic Sputtering Target for Y2o3 Yttria Applications
FAQ

1. Sei una società commerciale o un produttore?

Xinkang: Siamo orgogliosi di essere un produttore dedicato con oltre un decennio di esperienza senza pari nel settore dei materiali avanzati.

2. Quanto dura il tempo di consegna?

Xinkang: Per gli articoli di dimensioni normali o i campioni, la spedizione verrà spedita entro 3-5 giorni. Per le quantità di lotti, è previsto un tempo di consegna rapido di circa 15 giorni.

3. Hai un minimo di quantità d'ordine (MOQ)?

Xinkang: Assolutamente no! Offriamo flessibilità senza alcun MOQ, supportando prontamente gli ordini campione per soddisfare le vostre esigenze.

4. Quali sono i metodi di pagamento?

Xinkang: Offriamo una varietà di metodi di pagamento per la vostra comodità, tra cui T/T in anticipo, PayPal, Western Union e molto altro.

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