Gadolinio materiale della terra rara che polverizza l′obiettivo di polverizzazione di Target/Gd

genere: terra rara
Forma: Rings, Wafers, Particles, Rod, Customization
Certificazione: TUV, ISO, CE

Products Details

Informazioni di Base.

Pacchetto di Trasporto
scatola di legno sottovuoto
Specifiche
Rings, wafers, particles, rod
Origine
Repubblica Popolare Cinese
Capacità di Produzione
500 tonnellate/anno

Descrizione del Prodotto

Obiettivo di polverizzazione di Gd/Gadolinium
Purezza disponibile: 99.9%
Dimensione: Secondo la vostra richiesta
Figura disponibile: Rotondo, rettangolare
Densità : 7.895g/cm3
Punto di fusione: 1312º C
Punto di ebollizione: 3273º C 
Disponibile per COA (certificato di analisi)


Visualizzazione del prodotto
Rare Earth Material Gadolinium Sputtering Target/Gd Sputtering Target


La produzione degli obiettivi di ceramica di polverizzazione di elevata purezza ad alta densità E per la ricerca con i formati su ordinazione e le composizioni su ordinazione è Il nostro vantaggio. Tutti gli obiettivi sono analizzati using le migliori tecniche dimostrate compreso la fluorescenza dei raggi X (XRF), la spettrometria totale di scarico di incandescenza (GDMS) ed il plasma induttivo (ICP) coppia

 

Sotto è Una lista che offriamo che non è Esauriente ma appena un campione - se non vedete prego qualche cosa di particolare metterseli in contatto con per chiedere direttamente una virgoletta
 
Formula Obiettivo dell'ossido Purezza Formula Obiettivo di ceramica Purezza
Al2O3 Ossido di alluminio 2N-4N AlN Nitruro di alluminio 4N
Azo Ossido di zinco di alluminio 4N B4C Carburo del boro 2N5
BaTiO3 Titanato del bario 4N Bi2Te3 Tellururo del bismuto 4N
CeO2 Ossido del cerio 4N BN Nitruro del boro 3N
CuO Ossido di rame 3N CIGS CuInGaSe 4N
Fe2O3 Ossido ferrico 3N-3N5 CIS CuInSe 4N
HfO2 Ossido dell'afnio 4N Cu2S Solfuro rameoso 4N 5N
In2O3 Ossido dell'indio 4N CZTS CuZnSnS 4N
MgO Ossido di magnesio 4N MgF2 Fluoruro del magnesio 4N
MnO2 Diossido del manganese 3N Si3N4 Nitruro di silicio 3N
MoO3 Triossido del molibdeno 4N SiC Carburo di silicone 3N
Nb2O5 Pentossido del niobio 4N SnS2 Bisolfuro dello stagno 4N 5N
NIO Ossido del nichel 3N TiB2 Diboride di titanio 2N5
SiO2 Diossido di silicone 4N 5N TiC Carburo di titanio 3N
SnO2 Diossido dello stagno 4N Stagno Nitruro di titanio 3N
Ta2O5 Pentossido del tantalio 4N YbF3 Fluoruro dell'itterbio 4N-5N
TiO2 Diossido di titanio 4N YF3 Fluoruro dell'ittrio 4N
V2O5 Pentossido di vanadio 4N ZnS Solfuro dello zinco 4N
WO3 Triossido del tungsteno 4N ZnSe Seleniuro dello zinco 4N
ZnO Ossido di zinco 4N-5N ZnTe Tellururo dello zinco 4N
ZrO2 Ossido di zirconio 4N ZrB2 Boruro dello zirconio 3N
GZO Ossido di zinco del gallio 4N LiCoO2 Litio Cobaltate 3N
ITO Ossido dello stagno dell'indio 4N SrRuO3 Stronzio Ruthenate 3N
IZO Ossido di zinco dell'indio 4N SrTiO3 Titanato dello stronzio 3N
Rare Earth Material Gadolinium Sputtering Target/Gd Sputtering Target

I nostri obiettivi di polverizzazione pricipalmente consistono dei metalli puri e delle leghe, disponibili sia nelle figure planari che rotative.  
Obiettivi descritti da Rhexon:
1. Metallo puro:  
Ti, Zr, l'AT, N. B.: , Mo, W, Ni, Cr, Al, Zn, Si, Cu, ITO, AZO. TZO, WC, Nb2O5, TiO2, SiO2 con tipo planare e rotativo.,

2. Lega tipica  obiettivo  :
1) Ti/Al  lega  obiettivo  (67: 33.50: 50at%)
2) W/Ti  lega  obiettivo  (90: 10wt%),  
3) Ni/V  lega  obiettivo  (93: 7, WT %)
4) Ni/Cr  lega  obiettivo    (80: 20, 70: 30, WT %),  
5) Al/Cr  lega    obiettivo  (70: 30.50: 50at%)
6) Nb/Zr  lega    obiettivo  (97: 3.90: 10wt%
7) Si/Al  lega  obiettivo  (90: 10, 95: 5.98: 2.70: 30, WT %)
8) Zn/Al  lega
9)Cr puro    obiettivo  (99.95%, 99.995%)
10)Al/Cr  lega  obiettivo (70: 30, 50: 50, 15: 85.67: 33, wt%and  at%)
11) Ni/Cu  lega  obiettivo  (70: 30.80: 20, WT %)
12)Al/ND  lega  obiettivo  (98: 2WT %)
13) Mo/Nb  lega  obiettivo  (90: 10, WT %)
14)Obiettivo della lega di TiAlSi (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10, WT % e at%)
15)Obiettivo della lega di CrAlSi (Cr/Al/Si=30/60/10, WT % e at%)ed e così Via ed insieme di guida del materiale di obiettivo

Rare Earth Material Gadolinium Sputtering Target/Gd Sputtering Target
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Rapporto di certificazione
Rare Earth Material Gadolinium Sputtering Target/Gd Sputtering Target

Metterseli in contatto con

CONCENTRAR TECH SRL DI METALLURGIA
Telefono: 0086-755-27426325 +86-15014149381
 
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